每經(jīng)編輯｜何小桃    

1月8日，半導(dǎo)體龍頭中微公司（688012）公告稱，巽鑫（上海）投資有限公司持有公司6847.39萬股股份，占總股本的10.94%，計(jì)劃自公告披露之日起15個(gè)交易日后的3個(gè)月內(nèi)，通過集中競(jìng)價(jià)或大宗交易方式減持不超過1252.29萬股，即不超過公司總股本的2%，減持原因?yàn)樽陨斫?jīng)營(yíng)管理需要。

另外，被譽(yù)為“中國(guó)刻蝕機(jī)之父”的中微公司創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)、總經(jīng)理尹志堯計(jì)劃自公告披露之日起15個(gè)交易日后的3個(gè)月內(nèi)，通過集中競(jìng)價(jià)方式減持公司股份不超過29萬股，占公司總股本比例不超過0.046%。擬減持原因?yàn)椋骸耙虮救艘褟耐饧謴?fù)為中國(guó)籍，為依法辦理相關(guān)稅務(wù)的需要?！?/span>

截至1月9日收盤，中微公司股價(jià)報(bào)336.68元/股，總市值為2108億元。尹志堯擬減持股票市值約為9764萬元。

公開資料顯示，尹志堯，1944年生，中國(guó)國(guó)籍，中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)學(xué)士，加州大學(xué)洛杉磯分校博士。1984年至1986年，就職于英特爾中心技術(shù)開發(fā)部，擔(dān)任工藝工程師；1986年至1991年，就職于泛林半導(dǎo)體，歷任研發(fā)部資深工程師、研發(fā)部資深經(jīng)理；1991年至2004年，就職于應(yīng)用材料，歷任等離子體刻蝕設(shè)備產(chǎn)品總部首席技術(shù)官、總公司副總裁及等離子體刻蝕事業(yè)群總經(jīng)理、亞洲總部首席技術(shù)官；2004年至今，擔(dān)任中微公司董事長(zhǎng)、總經(jīng)理、核心技術(shù)人員。2024年從公司獲得的稅前報(bào)酬總額為1485.14萬元。

尹志堯，視頻截圖

中微公司2022年年報(bào)中仍明確標(biāo)注尹志堯?yàn)槊绹?guó)公民；其2023年年報(bào)未披露國(guó)籍信息；直至2024年其年報(bào)正式確認(rèn)已恢復(fù)中國(guó)國(guó)籍。

據(jù)紅網(wǎng)2018年的一篇報(bào)道，1944年，尹志堯出生在北平一個(gè)愛國(guó)世家。中學(xué)就讀于久負(fù)盛名的北京四中，本科畢業(yè)于天才云集的中科大。大學(xué)畢業(yè)后，尹志堯在蘭州煉油廠和中科院系統(tǒng)工作了近十年。1978年，“不安分”的他選擇繼續(xù)深造，考入北京大學(xué)化學(xué)系。1980年，他獲北大化學(xué)系碩士學(xué)位，后在親戚幫助下，到加州大學(xué)洛杉磯分校攻讀博士學(xué)位。僅僅三年半，他就拿到物理化學(xué)博士學(xué)位。

據(jù)媒體此前報(bào)道，2004年，時(shí)任上海市經(jīng)委副主任、曾推動(dòng)中芯國(guó)際落地上海的江上舟，正為國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)的市場(chǎng)空白發(fā)愁。

那一年的上海世界半導(dǎo)體設(shè)備展上，尹志堯以應(yīng)用材料公司副總裁、刻蝕產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理的身份參展，與江上舟不期而遇。

彼時(shí)江上舟已罹患肺癌，仍系心國(guó)內(nèi)刻蝕機(jī)的自主研發(fā)，多番動(dòng)員尹志堯回國(guó)創(chuàng)業(yè)。對(duì)尹志堯高齡回國(guó)的躊躇，江上舟豪言：“我是個(gè)癌癥病人，只剩下半條命，哪怕豁出這半條命，也想為國(guó)家造出光刻機(jī)、等離子刻蝕機(jī)，我們一起干吧！”

這一席話，堅(jiān)定了尹志堯的創(chuàng)業(yè)決心。隨后經(jīng)尹志堯游說，麥?zhǔn)肆x等十余位硅谷人才一同歸國(guó)，決意“瞄準(zhǔn)”中國(guó)芯片刻蝕設(shè)備領(lǐng)域的空白。

3年后，從零起步的中微公司研發(fā)出了首臺(tái)刻蝕設(shè)備、薄膜設(shè)備，并成功運(yùn)往國(guó)內(nèi)客戶，為產(chǎn)業(yè)需求提供優(yōu)質(zhì)高效和低成本的解決方案。

據(jù)上海證券報(bào)報(bào)道，近十年間，尹志堯帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)持續(xù)突破技術(shù)壁壘，半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的全國(guó)首臺(tái)套捷報(bào)頻傳：2015年，率先提出“皮米級(jí)”加工精度概念，開發(fā)出世界先進(jìn)水平的CCP和ICP等離子體刻蝕設(shè)備；2018年，自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)刻蝕機(jī)進(jìn)入客戶5納米產(chǎn)線；2010年—2025年，推動(dòng)開發(fā)了MOCVD\LPCVD\ALD\EPI\PEVCD一系列國(guó)際領(lǐng)先的薄膜設(shè)備；2025年，ICP雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕機(jī)精度達(dá)0.1nm（納米），技術(shù)達(dá)到全球先進(jìn)水平。

中微公司最新披露的三季報(bào)顯示，2025年前三季度，公司保持強(qiáng)勁發(fā)展勢(shì)頭，實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入80.63億元，同比增長(zhǎng)46.40%；實(shí)現(xiàn)歸屬于上市公司股東凈利潤(rùn)12.11億元，同比增長(zhǎng)32.66%。

中微公司表示，根據(jù)規(guī)劃，未來五到十年，其對(duì)集成電路關(guān)鍵設(shè)備領(lǐng)域的覆蓋度將提升至60%，將攜手行業(yè)上下游的合作伙伴，實(shí)現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康和安全的高質(zhì)量發(fā)展，力爭(zhēng)盡早在規(guī)模上和競(jìng)爭(zhēng)力上成為國(guó)際一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司。

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編輯|何小桃 易啟江

校對(duì)|陳俊杰

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